シトリーニのアナリスト：中国のDUV前進は想定内、ASML株の急落は行き過ぎ

中国メディア「火星財経」によると、シトリーニのアナリスト、ジューカン氏は7月28日、SNSで中国のDUV（深紫外線）リソグラフィ技術の進展を巡る報道について「特段驚く内容ではない」との見方を示した。市場はこの分野で一定の進展を織り込みつつあったと指摘。加えて、米メディア「The Information」の記事は、中国の大学教授が6月の社内会合で述べた発言を引用するにとどまり、新たな実質情報は開示されていないとした。 同氏は、こうしたニュースを受けてASMLなど半導体製造装置関連株が売られた動きは過剰反応との認識を示した。 The Informationは以前、関係者の話として、中国の国有資本が支援する企業が国産DUV露光装置の量産を開始し、中国半導体産業の自立化に向けた重要な前進になったと報じている。関係者によれば、同社は2026年に国産DUV露光装置を約5台生産し、2027年には約20台へ増産する計画という。もっとも、ASMLが昨年出荷した浸漬型DUV露光装置131台にはなお及ばない。一方で、国産装置が量産段階に入ったこと自体は、中国のチップ供給網の自律性を巡る大きな突破口として市場で注目されている。